Импорт пленки полиэтиленовой толщиного 20 мкм или более, но не более 40 мкм, для получения пленки фоторезиста, используемого в производстве полупроводниковых или печатных схем в Москву

Объём импорта пленки полиэтиленовой толщиного 20 мкм или более, но не более 40 мкм, для получения пленки фоторезиста, используемого в производстве полупроводниковых или печатных схем (код ТНВЭД 39201023) в Москву за 2020 год составил 62,73 $ при массе груза 0,02 тонн. Москва импортирует пленку полиэтиленовую толщиной 20 мкм или более, но не более 40 мкм, для получения пленки фоторезиста, используемой в производстве полупроводниковых или печатных схем с мирового рынка с ярко выраженной (331,66%) сезонностью. Максимум ввоза пришёлся на май 2020 г., минимум – на май 2020 г. Средняя импортная цена на пленку полиэтиленовую толщиной 20 мкм или более, но не более 40 мкм, для получения пленки фоторезиста, используемой в производстве полупроводниковых или печатных схем менялась в диапазоне от 3,21 тыс. до 3,21 тыс. долларов за тонну.

Беларусь (доля по стоимости - 100,00%, доля по массе - 100,00%) - крупнейшие страны-поставщики пленки полиэтиленовой толщиного 20 мкм или более, но не более 40 мкм, для получения пленки фоторезиста, используемого в производстве полупроводниковых или печатных схем в Москву

В импорте пленки полиэтиленовой толщиного 20 мкм или более, но не более 40 мкм, для получения пленки фоторезиста, используемого в производстве полупроводниковых или печатных схем преобладают товарные коды ТН ВЭД:
3920102300 - Пленка полиэтиленовая толщиной 20 мкм или более, но не более 40 мкм, для получения пленки фоторезиста, используемой в производстве полупроводниковых или печатных схем (доля по стоимости - 100,00%, доля по массе - 100,00%);