Экспорт пленки полиэтиленовой толщиного 20 мкм или более, но не более 40 мкм, для получения пленки фоторезиста, используемого в производстве полупроводниковых или печатных схем из Москвы

Объём экспорта пленки полиэтиленовой толщиного 20 мкм или более, но не более 40 мкм, для получения пленки фоторезиста, используемого в производстве полупроводниковых или печатных схем (код ТНВЭД 39201023) из Москвы за 2020 год составил 127,63 тыс. $ при массе груза 2,5 тонн. Москва экспортирует пленку полиэтиленовую толщиной 20 мкм или более, но не более 40 мкм, для получения пленки фоторезиста, используемой в производстве полупроводниковых или печатных схем на мировой рынок с ярко выраженной (220,67%) сезонностью. Максимум вывоза пришёлся на ноябрь 2020 г., минимум – на октябрь 2020 г. Средняя экспортная цена на пленку полиэтиленовую толщиной 20 мкм или более, но не более 40 мкм, для получения пленки фоторезиста, используемой в производстве полупроводниковых или печатных схем менялась в диапазоне от 1,14 тыс. до 75,45 тыс. долларов за тонну.

Армения (доля по стоимости - 98,87%, доля по массе - 86,98%), Казахстан (0,57% стоимости, 2,33% массы), Беларусь (0,26% стоимости, 10,29% массы), Германия и Киргизия - крупнейшие страны-получатели пленки полиэтиленовой толщиного 20 мкм или более, но не более 40 мкм, для получения пленки фоторезиста, используемого в производстве полупроводниковых или печатных схем из Москвы

В экспорте пленки полиэтиленовой толщиного 20 мкм или более, но не более 40 мкм, для получения пленки фоторезиста, используемого в производстве полупроводниковых или печатных схем преобладают товарные коды ТН ВЭД:
3920102300 - Пленка полиэтиленовая толщиной 20 мкм или более, но не более 40 мкм, для получения пленки фоторезиста, используемой в производстве полупроводниковых или печатных схем (доля по стоимости - 100,00%, доля по массе - 100,00%);